EUV、DUV、EUV在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說

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極紫外光微影、超紫外線平版印刷術（英語：Extreme ultraviolet lithography，亦稱EUV或EUVL）是一种使用極紫外光（EUV）波長的下一代微影（英语：next-generation ...

3. 能利用EUV以較高良率穩定生産的，世上也幾乎只有台積電1家。台積電和ASML的合作關係如此緊密，背後竟是曾經遭到英特爾的「排擠」所促成。

只是一套EUV 微影曝光設備每年耗電量達1 兆瓦，是前幾代設備10 倍，還沒有替代品的情況下，半導體產業還是全球推動節能減碳的巨大絆腳石。晶圓代工龍頭 ...

隨著EUV微影技術推進，預期2025年之後新一代EUV曝光機每小時曝光產量可達220片以上，以因應客戶端先進製程推進至埃米（Angstrom）世代對先進微影技術的 ...

EUV 光刻機採用10-14奈米極紫外光做光源的光刻技術設備，是目前市場上技術水平最高的光刻機產品。但由於美國禁令，大陸廠商僅能購買DUV光刻機，但無法取得 ...

極紫外線(EUV) 光罩是以新式微影系統，透過高能量、短波長的光源，將電路圖案轉印到晶圓。EUV 光源波長比目前深紫外線微影製程的光源波長短少約15 倍，因此能持續將線 ...

... 影製程五步驟01:32 台積電領先製程的光罩潔淨技術01:57 基於光學成像原理的微影製程03:02 技術含量需求最高的曝光技術05:33 搭配 EUV ，晶片才能.

製造晶片時TRUMPF高功率雷射放大器發揮關鍵作用：因為藉助它可生成發光等離子體，從而提供極紫外光(EUV) 曝光晶圓。TRUMPF與全球最大的光刻系統製造商ASML以及光學元件 ...

極紫外光（EUV）為目前最先進的曝光機，可以製造7nm以下的製程，全球僅有荷蘭艾司摩爾（ASML）能夠生產，新一代EUV曝光機單價達4億美元。

日本與美國已各有一家晶片廠研究出不使用EUV光刻機的晶片製造 ... 美國禁令限制極紫外光（EUV）的光刻機出售給中國，同時也想勸服ASML不要再出售深 ...