duv光刻機、ASML、euv光罩在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說

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微影設備是利用光線的波長來加工精密尺寸的晶片，又稱蝕刻機、光刻機；波長不同效率差很大。最早是使用汞燈產生的紫外光源，再來是深紫外光源（Deep ...

报告集中回答三个问题：. 1、DUV为何能够继续供应? 2、而EUV为何被美国控制? 3、DUV和EUV将成为制程世代分水岭的背后. 一、DUV技术由日本和荷兰独立发展：.

作為製造半導體晶片的關鍵設備，光刻機一般分為三種，即最早的UV（紫外線光刻機），和後來的DUV（深紫外線光刻機）以及EUV（極紫外線光刻機），其中EUV用 ...

2019年以來，在美國外交施壓影響下，ASML因應荷蘭當局禁令，沒有在中國銷售其尖端的EUV（極深紫外線）光刻機，只向中國客戶銷售其他產品如DUV設備，該部份 ...

由於近日中立或理性持相反意見頻道已被封所以一定一定要訂閱埋新網台***高B哥語我哋唔可以俾佢哋去控制個資訊所以一定要努力咁加入、訂閱同分享希望 ...

EUV光源波長比目前DUV（深紫外光刻（維基數據所列：Q112921067））的光源波長短，約為15分之1，因此能使用於線距更小電路圖案的曝光上。然而EUV光罩與傳統的光罩截然不同， ...

美國通過晶片法案限制全球光刻機巨頭ASML出口極紫外光刻機（EUV）給中國大陸後，中國加碼大量進口技術層次較低的深紫外光刻機（DUV），雖然中國的上海 ...

當前全球能夠製造EUV光刻機的企業只有荷蘭芯片光刻機巨頭阿斯麥（ASML）一家。ASML因此成為美中芯片大戰的焦點。儘管DUV設備不如EUV工具先進，但施賴 ...

據外媒引述知情人士指出，美國將更近一步從先進製程擴大範圍到「成熟製程」的深紫外光刻機台（DUV）。如果艾司摩爾同意，將再度重擊包含中芯國際、華 ...

首先纠正一个常识性的错误，没有7nm的DUV光刻机，也没有7nm的EUV光刻机。所有的DUV光刻机，用的光源都是193nm波长的ArF excimer laser，之前的一代DUV，用的光源 ...